Wafer Bumping 焊接设备

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简介:

主要应用于晶圆级封装(WLP);可以在6"、8"12" 晶圆基板上,通过Pillar Bumping、Gold Bumping、Solder Ball Drop工艺,形成一种金属凸点,再经过此设备完成植球工艺,是晶圆级制造中非常重要的工序。

主要特点:

1、残氧量PPM值以曲线的形式记录,监控记录可随时查阅和追溯

2、采用托条式运输结构,由伺服电机驱动,运输平稳,兼容6"、8"12" 晶圆板

3、水流量大小监控,冷却斜率可调

4、全区充氮气,加热全区1-6温区氧气自动巡检功能,残氧量<20PPM


设备参数:


项目参数
外型尺寸 (L x W x H)4358x1257x1785mm
设备重量Approx. 1250KG
加热区数量上 Top 6/下 Bottom 6
冷却区数量上 Top 2/下 Bottom 2
电源功率要求27KW
升温时间Approx. 20 minute
温度控制范围室温 Room Temp. ~350℃
温度控制精度±1.0 ℃
板温分布偏差±1.5 ℃
运输方式托条式运输 Walking Beam
托条数量7 Pcs
最大基板12.8 Inch (325mm)
最小基板3.75 Inch (95.25mm)
运输带高度950±20mm


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